紫外線**難以徹底解決目前普遍存在的純水系統中**的再污染問題。通常，城市自來水中的高有機負荷化合物（包括三鹵甲烷）、濁度和**的再污染是造成反滲透膜剝蝕和純水系統末端0.2μm過濾器堵塞的原因。在高純水制備中多用加氯或紫外線**，然后用膜過濾除去。用超過濾器也可去除大部分**，但不能完全殺死**和病毒。而臭氧是一種不穩定分子，是已知的第二位強氧化劑，能破壞全部微生物和**，并將其氧化為二氧化碳和水，而不留下任何有害的副產物。

臭氧**的機理是**與臭氧接觸，細胞膜破裂，細胞質在水中被粉碎、消解。普通加氯**是由于Ocl^-離子氧化**的細胞質，使**死亡。加氯**需要30-50min，而臭氧**只需要2秒。

在工藝水處理中臭氧含量在2-3mg/L范圍，通常用氧氣或過濾后的空氣作稀釋氣，與臭氧的比例為5：1，通入水中**，殘留的臭氧量約為0.005-0.05mg/L，可用一般的紫外燈照射除去。

應該指出，臭氧對水處理系統聽很塑料和密封材料等，均有較強的侵蝕性腐蝕，并使高純水系統受到污染。試驗表明，采用全聚偏二氟乙烯PVDF材料制造的設備和管材，對臭氧有良好的相容性，缺點是造價昂貴。

本文地址：http://www.jingchuantech.com/news/404.htm
推薦精品：反滲透阻垢劑∣阻垢劑∣硅磷晶