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　　羅克自動化科技有限公司現已成一家專業的全球性工業自動化備件及零部件的銷售維修型企業。

　　0100-09172 B AMAT板卡渠道商介紹，阿斯麥（ASML）是的全球**的半導體設備制造商之一，主要從事半導體光刻設備的設計、制造及銷售。阿斯麥總部位于荷蘭Veldhoven，業務范圍遍及全球，生產與研發單位則分別位于美國康乃狄克州、加州，臺灣以及荷蘭，主要設計、制造及銷售半導體設備，同時包括前道和后道半導體設備。

　　公司設計生產的前端設備產品主要包括外延反應器、垂直擴散爐、PECVD反應器、集束型設備、原子層沉積設備、等離子體增強原子層沉積（PEALD）設備等，其中最關鍵的核心技術與產品為高端光刻機和曝光機。

　　年份

　　事件

　　1986

　　推出媲美當時**機型的 PAS 2500 步進式光刻機

　　1991

　　推出**性平臺 PAS 5000，獲得較大成功

　　2000

　　推出雙晶圓臺技術， 進一步提高公司認可度

　　2003

　　推出業界**浸入式光刻工具， 尼康與佳能市場份額被壓縮，奠定高端市場壟斷地位

　　2007

　　推出 TWINSCAN NXT： 1950i 浸入式光刻系統，市場份額進一步擴大

　　佳能逐步退出芯片光刻機市場， 尼康芯片光刻機部門持續虧損

　　與臺積電開展 EUV 設備合作，逐步壟斷高端光刻機市場

　　由于研發EUV設備可能面臨高額費用和較大風險， 阿斯麥于2012年開展客戶聯合投資創新項目，三星、英特爾和臺積電共同向阿斯麥注資。

　　三家客戶的注資主要用于確保和加速EUV開發活動的進展以及加快450毫米晶圓新技術的發展。 此外，為爭取10nm以下關鍵工藝生產，三家公司可以參與阿斯麥EUV設備預訂單。

　　作為光刻機行業的龍頭，阿斯麥一直保持較高的營業收入，2017年營收108.1億美元，相比2016年的71.57億美元增長51.04%； 2017年共銷售161個新DUV（深紫外光刻）系統，同比上年增長21%。為客戶提供了11個EUV（極紫外光刻）系統， 而在2016年時，公司EUV的出產量只有4個。

　　公司處于行業的壟斷地位，因此毛利率較高，按照US GAAP的算法，從2011年開始到2017年，每年毛利率均超40%，2017年毛利率更是高達45%，高的毛利率帶來高的凈利率，2017年凈利潤25.30億美元。

　　公司為了能夠跟上客戶技術創新的步伐，每年在研發費用占總收入的10以上，2013-2017年研發費用均在10億美元以上，其中2017年研發費用14.2億美元，同比增加25.44%，公司擁有**的科研團隊，科研人員在總員工中占比超過35%，短期內，阿斯麥在國際上幾乎沒有任何競爭對手。

　　美國應用材料股份有限公司成立于1967年，總部位于美國加利福尼亞州圣克拉拉，于1978年1月在美國納斯達克上市。公司是全球**的半導體設備生產和服務提供商，生產提供Centura RP Epi外延系統（300mm硅片）、離子注入系統、氧化/氮化系統、物理沉積（PVD）設備、化學沉積（CVD）設備、 CMP設備、刻蝕系統、清洗設備等。

　　據2017年財報，2017年實現營業收入145.37億美元，較2016年108.25億美元增長34.29%，毛利率44.9%；半導體部門營收95.17億美元，占比65%。

　　應用材料憑借豐富的產品，優質的服務，**的技術，擁有眾多客戶，其中臺積電、三星電子、英特爾、美光科技等世界知名半導體企業都與應用材料有著多年合作。

　　三星電子作為**的存儲器供應商，在2017年度的半導體市場份額首度超過英特爾，成為全球**的芯片廠商，同時也超過臺積電，成為應用材料公司**的客戶。

資訊來源：汕頭羅克自動化